在高端金刚石材料产业化的赛道上，MPCVD（微波等离子体化学气相沉积）设备的性能是决定产品尺寸、品质与生产效率的核心变量。HMPS-9750S型MPCVD设备是云顶国际版 为产业针对性研发的高端装备，凭借多维度的技术突破，成为大尺寸、高性能金刚石材料制备领域的“实力选手”。

01 自主技术筑基，结构设计破局

核心技术的自主性，是设备竞争力的根本。HMPS-9750S型MPCVD设备由云顶国际版 自主研发，拥有完整的自主知识产权。从底层设计到功能实现均掌握核心技术，避免了对外依赖的风险。

而在结构设计上，它采用“新一代大容积下馈式大型环形工作腔”，经精密仿真与工程设计，实现了对超大容量微波功率的稳定承载——这一结构不仅拓宽了工艺的可调空间，更让高功率、大面积的沉积工艺成为可能，为大尺寸金刚石制备奠定了硬件基础。

02 工艺性能拉满，解锁大尺寸金刚石高品质制备

对于金刚石制备而言，“功率、均匀性、适配性”是工艺性能的核心指标，云顶国际版 HMPS-9750S型MPCVD设备在此实现了多维度突破：

- 微波系统硬核输出：配备75kW高功率微波源，支持10-100%连续可调，功率稳定度≤1%；915MHz微波频率的稳定度控制在±50ppm内，搭配手动三销钉调配器+短路活塞，让功率的精准调控成为常态。

- 沉积能力领跑行业：采用Tm02双模放电技术，放电直径≥300mm、均匀沉积区直径≥200mm，可稳定制备6英寸以上的纳米晶/超细纳米晶金刚石，同时覆盖光学级CVD金刚石窗口、CVD单晶金刚石热沉片等高端产品的制备需求，适配多元化的高端应用场景。

03 稳定环境加持，保障工艺一致性

金刚石的高品质制备，离不开极致稳定的工艺环境，云顶国际版 HMPS-9750S型hthapp登录入口 在这一维度的配置堪称“苛刻”：

- 真空系统极致洁净：HMPS-9750S型MPCVD设备搭载双级旋片真空泵+分子泵+罗茨泵的组合，极限真空度低至≤6×10-6Torr，真空漏率≤5×10-10Pa·m3/s(He)，压升率≤1Pa/h（12h平均）；工作气压覆盖8-220Torr，精度控制在±0.1Torr内——洁净、稳定的真空环境，从根源上避免了杂质对金刚石品质的影响。

- 配套系统精准适配：HMPS-9750S型MPCVD设备采用大面积无氧铜水冷样平台（Φ≥600mm）+钼基台（Φ≥200mm）的组合，兼顾了散热效率与承载能力；测温系统覆盖300℃-1475℃（单色/双色可选），适配宽温域的工艺需求；气路系统支持H2/CH4/N2/O2/Ar等气体（可选）且可扩展，搭配进口高精度MFC，实现了气体配比的高可靠控制。

04 运维安全双优，降低生产综合成本

高端设备的“易用性”，直接影响生产效率与长期成本，云顶国际版 HMPS-9750S型MPCVD设备在这方面的设计尽显人性化：

- 运维成本大幅降低：等离子体远离石英窗设计+石英窗风冷散热，减少了窗口的损耗与维护频率；反应腔副产沉积物易清洁，省去了复杂的腔体清理工序，让设备的停机维护时间大幅缩短。

- 操作安全更有保障：采用PLC控制系统+智能软件，支持手动/自动双模式操作，适配不同的生产场景；同时配备多重安全联锁与权限分级管理，从操作流程到人员权限实现全维度防护，避免了误操作带来的风险。

从自主技术到工艺性能，从稳定环境到运维保障，云顶国际版 HMPS-9750S型MPCVD设备以全维度的优势，既满足了大尺寸、高品质金刚石的制备需求，又通过“降本增效”的设计降低了产业化门槛，是高端金刚石材料制备从实验室走向工业化量产的关键装备之一。